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1. 硬度計(jì)
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2. 測(cè)厚儀
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3. 探傷儀
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4. 金相設(shè)備
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5. 通用檢測(cè)儀
表面粗糙度儀 | 粘度計(jì) | 光澤儀 | 色差儀
附著力測(cè)試儀 | 沖擊儀 | 鹽份儀 | 測(cè)振儀
建標(biāo)專用試塊
產(chǎn)品名稱:XXQ系列玻璃管定向X射線探傷機(jī)
- 產(chǎn)地:中國 銷售:滄州歐譜
- 簡(jiǎn)介:變頻氣絕緣攜帶式X射線探傷機(jī)全系列變頻氣絕緣攜帶式X射線探傷機(jī),具有體積小、重量輕、操作簡(jiǎn)便、設(shè)計(jì)新穎、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、攜帶方便等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于石油、化工、軍工、造船、鍋爐制造、壓力容器制造等領(lǐng)域需要。
一、概述
變頻氣絕緣攜帶式X射線探傷機(jī),是一種先進(jìn)的無損檢測(cè)設(shè)備,廣泛適用于機(jī)械制造、石油、化工、輕紡、航空、鍋爐、壓力容器、冶金、造船、國防工業(yè)等部門,尤其適用于野外現(xiàn)場(chǎng)及高空作業(yè)。變頻氣絕緣攜帶式X射線探傷機(jī)采用先進(jìn)的Z-2000E控制器。該控制器集國內(nèi)、外同類儀器之所長,選用先進(jìn)的單片微型計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)和可控硅調(diào)壓、可控硅變頻穩(wěn)流等先進(jìn)的電子線路。本系列探傷機(jī)具有體積小、重量輕、操作簡(jiǎn)便、工作穩(wěn)定、可靠性高等優(yōu)點(diǎn)。
該X射線探傷機(jī)包括以下系列產(chǎn)品:
XXQ-1005型、XXQ-1605型、XXQ-2005型、XXQ-2505型、XXQ-3005型、XXQ-3205型、XXQ-3505型。
產(chǎn)品為定向輻射變頻氣絕緣攜帶式X射線探傷機(jī)。
二、技術(shù)參數(shù)
型 號(hào) |
輸入電源 |
X射線管電壓KVP |
X射線管 |
X射線發(fā)生器 |
控制器 |
|||||
焦點(diǎn)尺寸(mm) |
輻射 |
窗口距地面尺寸mm |
外形尺寸 |
重量(kg) |
最大 |
重量 |
特殊性 |
|||
XXQ-1005 |
>1.2 |
50~100 |
0.8×0.8 |
40° |
160 |
190×190×520 |
11.4 |
8 |
12.5 |
高頻特性 吸收電路 |
XXQ-1605 |
>1.5 |
60~160 |
0.8×0.8 |
40° |
175 |
225×225×585 |
17.7 |
18 |
||
XXQ-2005 |
>2 |
100~200 |
1.5×1.5 |
40° |
220 |
285×285×665 |
24 |
30 |
12 |
通用性 |
XXQ-2505 |
>2.5 |
150~250 |
2.0×2.0 |
40° |
250 |
320×320×730 |
35 |
40 |
||
XXQ-3005 |
>3 |
170~300 |
2.3×2.3 |
40° |
285 |
345×345×830 |
46 |
50 |
11 |
|
XXQ-3205 |
>3.2 |
180~320 |
2.3×2.3 |
40° |
260 |
345×345×830 |
47 |
55 |
||
XXQ-3505 |
>3.4 |
180~350 |
2.8×3.0 |
40° |
260 |
345×345×800 |
43.5 |
60 |
三、技術(shù)指標(biāo)
項(xiàng) 目 |
分 項(xiàng) 目 |
技 術(shù) 數(shù) 據(jù) |
輸 入 |
交流電源 |
單相50HZ AC220V±10% |
輸 出 |
X射線管電流(平均值) |
5mA |
高壓變壓器輸入電壓波動(dòng) |
±1% |
|
X射線 |
冷卻方式 |
強(qiáng)迫風(fēng)冷 |
絕緣方式 |
SF6 氣體絕緣 |
|
安全工作壓力(20℃) |
0.35Mpa~0.45Mpa |
|
工作環(huán)境 |
溫度 |
-30℃~+40℃ |
相對(duì)濕度 |
<85% |
|
海拔高度 |
1000m |
|
最大穿透 |
鋼板 |
A3(mm) |
焦距 |
600mm |
|
曝光時(shí)間 |
5min |
|
膠片 |
天津Ⅲ型,雙面鉛箔增感 |
|
暗室處理 |
溫度20℃±2℃顯影時(shí)間5min |
|
黑度 |
D≥1.5 |
|
控制器 |
尺寸 |
360mm×300mm×145mm |
重量 |
12kg |
|
計(jì)時(shí)誤差 |
5min±10% |
|
工作方式 |
按1:1方式工作與休息,曝光時(shí)間最長可預(yù)置時(shí)間為9.5分鐘(5min) |